\u003Cn aluminum窒化物セラミックは、優れた熱伝導率、信頼性の高い電気絶縁性、低誘電率、誘電損失、非

toxicity、およびシリコンと一致する熱膨張係数などの一連の優れた特性を有する。それは優れた包括的な性能の新しいタイプです。セラミック材料は、新世代の高集積半導体基板および電子デバイス包装のための理想的な材料であると考えられている。窒化アルミニウム（AlN）は六角形の結晶であり、純粋なAlNは青-white、通常は灰色またはオフ--

窒化アルミニウムセラミックスの調製方法は基本的に他のセラミック材料の製造方法と同様である。 3つの製造方法がある：粉末合成、成形および焼結;窒化物粉末が最終セラミック製品の製造のための原料として使用される。その純度、粒径、酸素含有量および他の不純物の含有量は、熱伝導率、その後の焼結、およびその後の製品の形成プロセスに重要な影響を及ぼす。最終製品が優れた性能を持っているか角質ストーンであるかどうか。窒化アルミニウム粉末の合成方法は以下の通りである。成形、ホットプレス、およびアイソスタティックプレスはすべて適用可能です。窒化アルミニウム粉末の強い親水性のために、窒化アルミニウムの酸化を減少させるために、成形プロセス中に水との接触はできるだけ避けるべきである。また、高温プレスとアイソスタティックプレスは、高

PYFORMANCEバルク窒化アルミニウムセラミック材料の製造に適していますが、高コストと低生産効率を持ち、エレクトロニクス産業における窒化アルミニウムセラミック基板に対する需要の増大を満たすことはできません。